第187章 极紫外光源的进展（1 / 4）

其二——靶材，为降低离子碎屑、提高EUV-CE，人们开始逐渐减小Sn靶的尺寸，并最终将液滴Sn靶作为主要研究对象。

但是液滴Sn的时空的不稳定性，也给光刻机光源的设计和制造增加了难度。

其三其四分别是驱动光源和双脉冲模式，这里不过多讲解。

最后就是碎屑污染的问题，激光等离子体通过激光将入射到靶材产生高温、高密度的等离子体并辐射EUV光，其过程必然会产生一定的碎屑（由熔融液滴、微粒团簇、中性碎屑原子和高能离子组成）。

这些碎屑不处理好的话，也会损坏光刻机光学元件，进而影响其性能，甚至对人体健康也有一定的影响。

光学技术研发实验室

徐华和李默这两位负责人正在为极紫外光源技术的几个问题进行讨论。

“李博士，虽然我们有复眼镜头的加持，但是在靶材、碎屑污染也是问题啊！”

徐华有些犯愁。

虽然说蜂巢复眼镜头技术的出现，从某种程度上解决了极紫外光源的核心镜片问题，但是仍旧有一些问题存在。

目前市售EUV光刻机产品均采用将充入惰性气体或氢气和外加磁场相结合的方案除去碎屑，当然也可以采用双脉冲方案去除。

不过这两种方案皆是不适用于现在所设计的光源。

所以还需要重新商讨和设计一个去除碎屑的方案。

“怎么了？看你们愁眉苦脸的样子。”

众所周知，EUV极紫外光刻机最为关键的部件就是极紫外光源，这就不用多说了。

而极紫外光源主要有五大关键的问题技术需要攻破，才能正式制造出该光源。

其一是多层膜反射镜，由于EUV光源子能量极高，几乎可被所有介质所吸收，较高的反射率可以极大提高光源性能。

而经过研究发现，采用Mo/Si多层膜制备出的反射镜对中心波长为13.5nm、光谱带宽在2%以内EUV光的反射率可达70%。

而这一技术在许黎拿出复眼镜头技术之后，经过一番实验后也攻克了。